Innovatives Positioniersystem für die Raman-Spektroskopie bis 12"
Große und schwere Proben schnell und prozesssicher scannen

Albstadt, 24.06.2025 (PresseBox) - Das 2X-Y-Ys(Z) Positioniersystem von Steinmeyer Mechatronik ist eine ideale Lösung zur präzisen Positionierung von großen und schweren Proben in der Raman-Spektroskopie. Der reinraumtaugliche Mikroskopietisch in Gantry-Bauweise bietet einen zusätzlichen Beladehub und punktet mit einem großen Scanbereich, einer hohen Tragfähigkeit sowie minimalem Platzbedarf. Individuelle Anpassungen sind möglich.

Die Raman-Spektroskopie hat sich als zerstörungsfreie, kontaktlose Methode zur Analyse und Charakterisierung von Materialien in Industrie und Forschung bewährt. Qualität und Verlässlichkeit der Ergebnisse stehen und fallen dabei mit der Leistungsfähigkeit des Positioniersystems, das für die Ausrichtung und Bewegung der Proben eingesetzt wird. Steinmeyer Mechatronik, Teil der Steinmeyer-Gruppe, ist Spezialist für hochgenaue Positionierkonzepte sowie ein erfahrener Partner der Halbleiterindustrie und realisiert hochperformante, maßgeschneiderte Lösungen, die den applikationsspezifischen Anforderungen optimal gerecht werden.

2X-Y-Ys (XYZ) Positioniersystem für die Wafer-Inspektion

Klassische Mikroskopietische verfügen in der Regel über Scanbereiche von maximal 150 x 150 mm und sind damit für viele Anwendungen deutlich zu klein. Abhilfe schafft das 2X-Y-Ys(Z) Positioniersystem von Steinmeyer. Es ermöglicht hochauflösende Bewegungen in XYZ für Proben bis 400 x 400 mm mit zusätzlichem Beladehub und Lasten bis zu 40 kg und eignet sich damit ideal für die Raman-Messung von schweren Wafer-Chucks sowie großen Wafern bis 12". Der sehr gute Stillstand, der gleichmäßige Lauf und die Schwingungsisolierung stellen eine exakte Fokussierung des spezifischen Probenbereichs sicher. So können detaillierte und genaue Informationen auf molekularer Ebene gewonnen werden.

Für den Dauereinsatz in der Halbleiterproduktion entwickelt

Der Gantry-Aufbau sorgt für die XY-Bewegung. Mit einem doppelt langen Hub in der oberen Achse wird – zusätzlich zum 400-mm-Arbeitshub in XY – ein Beladehub von weiteren 400 mm realisiert. Die Vertikalbewegung und der Fokus werden durch eine schräg angeordnete Achse bei gleichzeitiger Bewegung der Y-Achse ermöglicht. Der Schräghub ist Teil des Beladehubs. Durch die gleichzeitige Ansteuerung der Achsen Y und Ys wird die vertikale Bewegung in Z realisiert. Dank der Vertikalverfahrung können verschiedene Probendicken vermessen werden. Das Positioniersystem ist für einen wartungsarmen Betrieb bei 24/7-Produktion bis Reinraumklasse ISO 4 ausgelegt (höher auf Anfrage) und lässt sich unkompliziert in bestehende Mechaniken und Hausungen integrieren. Die Optik kann ortsfest platziert werden. Für den Antrieb sorgen Kugelgewindetriebe und Schrittmotoren. Die Anbindung an eine vorhandene Steuerelektronik erfolgt über eine externe Steuerung und DLL- oder AVI-Interfaces.

Breite Optionsvielfalt für kundenindividuelle Anpassungen

Als Spezialist für kundenspezifische Lösungen bietet Steinmeyer Mechatronik eine Vielzahl an Möglichkeiten zur applikationsspezifischen Anpassung. Unter anderem stehen folgende Optionen zur Verfügung: Linearmaßstab für 0,5 µm Wiederholbarkeit, Linearmotor für hohen Durchsatz, Kippachsen zum Ausrichten des Chucks, Drehtisch zum Vermessen runder Proben, Bandabdichtung, Absaugung, Bremse, Probenhalter, Umhausung, Sicherheitskonzept und -technik (Not-Aus, Türschalter, Lichtgitter, Laserscanner, STO, SLS). Selbstverständlich ist auch ein individueller Aufbau mit Gestell, Umhausung oder Einbindung in die Fab möglich.

Innovative Lösung für die Halbleiterindustrie

Großer Scanbereich und hohe Tragfähigkeit bei minimalem Platzbedarf und einem hohen Maß an Flexibilität: Das 2X-Y-Ys(Z) Positioniersystem von Steinmeyer setzt Maßstäbe in puncto Performance, Sicherheit sowie Zuverlässigkeit und ist eine innovative Lösung für die Analyse organischer Verbindungen auf hochreinen Oberflächen – sei es in der Halbleiterproduktion und -entwicklung (Chucks, Wafer, Chips), bei der Funktionsflächenuntersuchung (Lithopraphiegeräte, Waferstepper, Dicing), bei der Display-Herstellung, bei der Medikamentenentwicklung, bei der Assey-Entwicklung oder bei der Wirkstoffoptimierung.