SMEE-Patent: Hoffnungsschimmer für Chinas Halbleiterindustrie

Ein neues, enthülltes Patent des chinesischen Lithographie-Systemherstellers Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) gibt Einblicke, wie heimische Firmen trotz US-Sanktionen Fortschritte im Bereich der fortschrittlichen Lithographie-Werkzeuge erzielen könnten. Das Patent für "extreme ultraviolet […] mehr